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SiC
晶圆
激光退火
| LA
SiC
晶圆激光退火
| LA
应用领域
SiC晶圆欧姆接触制备
产品特点
国内首家通过量产验证
成熟稳定、可靠性好
全自主光学系统，LIET专利光学整形技术
绿光、紫外两种波长可选
型号
LA2515UV
LA2540/2550S
晶圆尺寸
6寸、8寸
光斑尺寸
X:100~500μm
Y:100~500μm
最大激光能量密度
Green:10J/cm
2
UV:6J/cm
2
比电阻接触率
~10
-5
Ω·cm
2
氧含量控制
≤10ppm
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晶圆制造
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激光诱导结晶设备
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浅结/超浅结晶圆退火
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激光解键合系统
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SiC
晶圆激光退火
| LA
激光诱导外延生长设备
| LIEG
晶圆激光标刻机
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